筛选条件
制造商:Infineon Technologies
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,240 W,30 V,1805至1880 MHz
- 频率
- 1805至1880 MHz
- 供电电压
- 30.0 V
- 增益
- 18至19 dB
- 封装类型
- H-33288-6
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,1000 W,50 V,1030 / 1090 MHz
- 频率
- 1030至1090 MHz
- 供电电压
- 50.0 V
- 增益
- 17至21 dB
- 封装类型
- H-36275-4
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,25 W,50 V,500至1400 MHz
- 频率
- 1200至1400 MHz
- 供电电压
- 50.0 V
- 增益
- 16.5至17.5 dB
- 封装类型
- H-36265-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,240 W,30 V,1930至1990 MHz
- 频率
- 1930至1990 MHz
- 供电电压
- 30.0 V
- 增益
- 15.8 dB
- 封装类型
- H-37260-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,270W,28V,728至768MHz
- 频率
- 728至768 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 18至18.5 dB
- 封装类型
- H-34288-4/2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,340 W,30 V,1930至1990 MHz
- 频率
- 1930至1990 MHz
- 供电电压
- 30.0 V
- 增益
- 17.5至19 dB
- 封装类型
- H-37275-6/2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,90 W,28 V,920至960 MHz
- 频率
- 920至960 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 19.5 dB
- 封装类型
- H-37265-2
Infineon Technologies
- 描述
- 热增强大功率射频LDMOS场效应晶体管,60 W,725至770 MHz
- 频率
- 725至770 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 18至19.5 dB
- 封装类型
- H-36265-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,140 W,28 V,2010至2025 MHz
- 频率
- 2010至2025 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 15至16 dB
- 封装类型
- H-37248-4
Infineon Technologies
- 描述
- 宽频射频LDMOS集成功率放大器,15 W,28 V,700至1000 MHz
- 频率
- 700至1000 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 29至30 dB
- 封装类型
- PG-DSO-20-63