筛选条件
制造商:Infineon Technologies
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,200 W,30 V,2110至2170 MHz
- 频率
- 2110至2170 MHz
- 供电电压
- 30.0 V
- 增益
- 15.8 dB
- 封装类型
- H-37260-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,180 W,28 V,2110至2170 MHz
- 频率
- 2110至2170 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 15.5 dB
- 封装类型
- H-36260-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,70 W,28 V,1805至1880 MHz
- 频率
- 1805至1880 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 15.5至16.5 dB
- 封装类型
- H-36265-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,45 W,28 V,1930至1990 MHz
- 频率
- 1930至1990 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 17.5 dB
- 封装类型
- H-31265-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,180 W,30 V,2110至2170 MHz
- 频率
- 2110至2170 MHz
- 供电电压
- 30.0 V
- 增益
- 16至17 dB
- 封装类型
- H-34288-4/2
Infineon Technologies
- 描述
- 热增强大功率射频LDMOS场效应晶体管,150W,420至500 MHz
- 频率
- 420至500 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 20至21 dB
- 封装类型
- H-36248-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,350 W,50 V,1200至1400 MHz
- 频率
- 1200至1400 MHz
- 供电电压
- 50.0 V
- 增益
- 15.5至16 dB
- 封装类型
- H-36248-2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管,160 W,28 V,920至960 MHz
- 频率
- 920至960 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 19.5至20 dB
- 封装类型
- H-34288-4/2
Infineon Technologies
- 描述
- 大功率射频LDMOS场效应晶体管 120W,28V,2496至2690MHz
- 频率
- 2496至2690 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 12.5至13.5 dB
- 封装类型
- H-37248-4
Infineon Technologies
- 描述
- 热增强大功率射频LDMOS场效应晶体管,55 W,869至960 MHz
- 频率
- 869至960 MHz
- 供电电压
- 28.0 V
- 增益
- 18至18.5 dB
- 封装类型
- H-37265-2